| 主权项 |
1.下式I之 式中取代基具有下列意义: R1,R3,R4各为氢,卤素,C1-C4烷基,C1-C4卤烷基; R2为氢; R5,R6为氢: R7为氢; R8为氢,C1-C4烷基经卤素,C1-C4烷氧基及C1-C4卤氧基取 代之啶或哒基:或 R7及R8一起形成一键; R9苯基,啶基或哒基,可视情况经卤素,C1-C4烷基 ,C1-C7卤烷基及C1-C4烷氧基取代; 或式I之 之N-氧化物或酸加成盐,除各基如下定 义之化合物外: la-d R1,2,3,4,5,6,7,8=H;R9=C6H5,4-Cl-C6H4,2,4-二-Cl-C6H3,2,4- 二-Br-C6H3, le-h R1,2,3,4,5,6,7,8=H;R9=4-Cl-C6H4,2,4-二-Cl-C6H3,各例中 呈N-氧化物及HCl盐形式, li R1,2,3,4,5,6,7,8=H;R9=4-Br-C6H4,HBr盐 lj-k R1,2,3,4,5,6,7,8=H;R5=CH3;R7=H,CH3;R9=C6H5 lm R1,3,4,6,7,8=H;R2,5=CH3;R9=C6H5, ln R1=O-CH3;R2,3,4,6,7,8=H;R5=CH3;R9=C6H5HCl盐, lo-q R1,3,4,5,6,7,8=H;R2=CH3;R9=4-NO2-C6H4;HCl盐,N-氧化物 lr-s R1,2,4,5,6,7,8=H;R3=Cl;R9=4-NO2-C6H4,4-Cl-C6H4 lt-u R1,2,3,4,6,7,8=H;R5=C1;R9=4-Cl-C6H4,2,4-二-Cl-C6H3 lv-x R1,4,6,7=H;R3=H,;R2=H,CH3O;R5=CH3R8,9=CH2CH2Cl HCl盐, lx R1,4,6,7=H;R3=Cl R2=H;R5=CH3 R8,9=CH2CH2Cl HCl盐, ly R1,4,6,7=H;R3=H;R2=Cl;R5=H R8,9=CH2CH2Cl HCl盐, lz R1,2,4,5,6,7,8=H;R3=Cl;R9=CH2-3-Py, 2a-b R1,2,3,4,5,6,7,8=H; R3= -4-基,二-N-氧化物, 2c R1,2,3,4,6,7,8=H;R5=CH3;R9= -4-基,二-N-氧化物, 2d-o R1,2,3,4,5,6,=H;R9=C6H5,C6H5 N-氧化物,4-Cl-C6H4,4-Cl-C6H 4 N-氧化物,4-Br-C6H4,4-Br-C6H4 N-氧化物,2,4-Cl-C6H3,2,4-Cl -C6H3 N-氧化物,2,4-Br-C6H3,2,4-Br-C6H3 N-氧化物,4-(CH3)2N- C6H4,4-(CH3)2N-C6H4 N-氧化物, 2p-q R1,3,6,=H;R5-CH3;R9=C6H5;R2=OCH3,R4=OCH3; 2r-s R1,3,6,=H; R5=CH3; R9=C6H5; R2=OCH2CH3; R4=OCH2CH3; 2t-v R1,2,34,6,=H; R5=Cl; R9=C6H5,4-Cl-C6H4,2,4-Cl-C6H3; 2w R1,2,4,5,6=H; R3=Cl;R9=C6H5, 2x R1,2,3,4,6=H; R5=CH3; R9=C6H5, 2y R1,2,3,4=H;R5,6=CH3;R9=C6H5, 2z R2,3,4,6=H;R1,5=CH3;R9=C6H5, 3a R1,3,4,6=H;R2,5=CH3;R9=C6H5, 3b R1,2,3,6=H;R4,5=CH3;R9=C6H5, 3c R2,4,6=H;R1,3,5=CH3;R9=C6H5, 3d R1,3,6=H;R2,4,5=CH3;R9=C6H5。2.根据申请专利范围第1 项之式I之 ,其中取代基具有下列意义: R1,R2,R3,R4各为氢,卤素,C1-C4烷基,C1-C4卤烷基; R2为氢; R5,R6为氢; R7为氢; R8为氢,C1-C4烷基; R7及R8一起形成一键; R9为苯基,啶基或哒基,可视情况经卤素,C1-C4烷 基,C1-C4卤烷基及C1-C4烷氧基取代;3.根据申请专利 范围第1项之式I之 ,其中取代基R3具有下列意义: R3为卤素、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基。4.根据申请专 利范围第1项之式I之 ,其中取代基R1及R3具有下 列意义: R1及R3为卤素,C1-C3烷基。5.根据申请专利范围第1项 之式I之 ,其中取代基R1,R2,R3或R4之二者为氢。6. 根据申请专利范围第1项之式I之 ,其为式Ia之化 合物 Ia 式中取代基R1,R2,R3,R4,R5,R6及R9具有根据申请专利范 围第1项之意义。7.根据申请专利范围第6项之式I 之 ,其中取代基具有下列意义: R1,R3,R4各为氢,卤素,C1-C4烷基,C1-C4卤烷基; R2为氢; R5,R6为氢; R9为苯基,啶基或哒基,可视情况经卤素,C1-C4烷 基,C1-C4卤烷基及C1-C4烷氧基取代;8.根据申请专利 范围第1项之式I之 或其N-氧化物或酸加成盐之 一,包括化合物la至3d,系用于控制有害真菌。9.一 种制备根据申请专利范围第1项之式I之 之方法, 其包括式II之4-卤 与式III之反应 取代基R1至R9具有根据申请专利范围第1项之意义, Hal为I,Br,Cl或F。10.一种制备根据申请专利范围第6 项之式Ia之 之方法,其包括式Ib之 以氧化剂氧 化 取代基R1,R2,R3,R4,R5,R6及R9具有根据申请专利范围第 1项之意义。11.一种杀真菌组合物,包含杀真菌有 效量之至少一种根据申请专利范围第1项之式I之 或其N-氧化物或酸加成盐之一,除化合物la至3d外 。12.一种控制有害真菌之方法,其包括以杀真菌有 效量之根据申请专利范围第1项之通式I之化合物 或其N-氧化物或酸加成盐之一,包括化合物la至3d, 或以根据申请专利范围第11项之杀真菌组合物,包 含式I之 ,处理有害真菌,其环境,或欲免于有害 真菌之植物、区域、物质或空间。 |
