| 摘要 |
<p>Um gepulste Glimmentladungen zu regeln, wird die Plasmaemission oder die Entladungsspannung gemessen. Dabei kommt es zur Beeinflussung des gemessenen Signals durch Bedampfen der Messonde oder hochfrequente Störungen aus dem Plasma. Das neue Verfahren soll mit geringem apparativem Aufwand einen stabilen, definiert geführten Prozess über einen langen Zeitraum gewährleisten. Je nach Art der Energieeinspeisung wird die Pulsfrequenz, die Periodendauer oder die Dauer der einzelnen positiven und/oder negativen Halbwellen der eingespeisten Energie gemessen. Aus diesen Größen wird ein Signal gewonnen, welches mit einem vorgegebenen Sollwert verglichen wird. Mit dem Differenzsignal wird mindestens ein Prozessparameter gesteuert. Das Verfahren ist bei PVD- und CVD-Prozessen anwendbar.</p> |
