发明名称 LOW TEMPERATURE REFINING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR GAS
摘要
申请公布号 JPH10192630(A) 申请公布日期 1998.07.28
申请号 JP19970003171 申请日期 1997.01.10
申请人 IWATANI INTERNATL CORP;IWATANI GAS KK 发明人 DATE MASANOBU;KAWAGUCHI ETSUJI;TOGIYA SHOICHIRO
分类号 B01D46/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):B01D46/00 主分类号 B01D46/00
代理机构 代理人
主权项
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