发明名称 반도체소자 제조 공정용 웨이퍼 가장자리 세정장치
摘要 본 고안은 반도체소자 제조를 위한 감광제 코팅 공정시, 웨이퍼 상면 가장자리에 도포된 감광제가 빠른 시간내에 깨끗이 제거될 수 있도록 한 것이다. 이를 위해,본 고안은 웨이퍼척(1) 상면으로 진입하거나 웨이퍼척(1) 상면을 벗어나도록 후퇴가능하게 설치되며 그 내부에 신너 공급덕트(2)가 형성되는 신너 분사노즐 장착용 플레이트(3)와, 상기 신너 분사노즐 장착용 플레이트(3) 저면 가장자리에 원주면을 따라 일정 간격 이격되어 장착되는 복수개의 신너 분사노즐(4)과, 상기 신너 분사노즐(4)을 통해 웨이퍼척(1) 상면에 로딩된 웨이퍼(5) 가장자리에 신너가 분사되도록 신너 공급덕트(2)로 신너를 주입하기 위해 신너 분사노즐 장착용 플레이트(3) 일측에 연결되는 신너 주입라인(6)으로 구성된 반도체소자 제조 공정용 웨이퍼 가장자리 세정장치이다.
申请公布号 KR19980020168(U) 申请公布日期 1998.07.15
申请号 KR19960033379U 申请日期 1996.10.10
申请人 null, null 发明人 이상중
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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