发明名称 FABRICATION PROCESS OF COMPOUND SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING L-SHAPED GATE ELECTRODE
摘要
申请公布号 KR0140950(B1) 申请公布日期 1998.07.15
申请号 KR19940022395 申请日期 1994.09.06
申请人 NEC CORP 发明人 OIKAWA, YOICHI
分类号 H01L29/812;H01L21/285;H01L21/338;H01L29/423;H01L29/47;(IPC1-7):H01L21/338 主分类号 H01L29/812
代理机构 代理人
主权项
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