发明名称 화학기상증착장치
摘要 <p>본 고안은 웨이퍼 상에 증착공정이 진행되는 반응챔버와, 증착가스가 생성되는 증착가스 공급부와, 반응챔버와 증착가스 공급부를 연결하고, 내부에 필터가 형성된 주이송관을 구비하여 증착가스 공급부로 부터 공급된 증착가스가 주이송관을 따라 흐르면서 필터에 여과되어 반응챔버 내의 웨이퍼에 증착공정이 진행되는 화학기상증착장치에 있어서, 필터와 증착가스 공급부 사이에 개폐밸브를 설치하고, 개폐밸브와 필터사이에 정화가스를 공급하는 부이송관을 연결하여서 이루어져서, 부이송관으로 부터 공급되는 정화가스가 주이송관 내의 필터를 통과하면서 필터가 세정되도록 구성된 것이 특징인 화학기상증착장치에 관한 것이다.</p>
申请公布号 KR19980018417(U) 申请公布日期 1998.07.06
申请号 KR19960031825U 申请日期 1996.09.30
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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