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发明名称 METHOD AND DEVICE FOR TREATING SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPH10177988(A) 申请公布日期 1998.06.30
申请号 JP19960338597 申请日期 1996.12.18
申请人 SONY CORP 发明人 KIMURA TOYOKAZU
分类号 H01L21/306;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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