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<p>본 고안은 반도체 마스크의 에지 포트레지스트 제거장치에 관한 것으로, 종래에는 마스크의 가장자리에 도포되어 있는 포토레지스트가 후공정에서 이물질로 작용하는 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 마스크 에지 포토레지스트 제거장치는 양측에 설치되는 린스노즐과, 그 린스노즐을 지지하기 위한 지지대로 구성되어, 포토레지스트가 도포된 마스크의 가장자리를 린스액으로 제거함으로서, 후공정에서 마스크의 가장자리에 도포되어 있는 포토레지스트가 이물질로 작용하는 것을 방지하게 되는 효과가 있다.</p> |
