首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Positive working photoresist composition
摘要
申请公布号 SG49669(A1) 申请公布日期 1998.06.15
申请号 SG19960003602 申请日期 1993.09.24
申请人 HOECHST CELANESE CORPORATION 发明人 LU PING-HUNG;DAMMEL, PALPH, R.;EIB NICHOLAS KISER;FICNER, STANLEY, A.;KHANNA, DINESH, N.;KLOFFENSTEIN, THOMAS J., JR.;LYONS, CHRISTOPHER, F.;PLAT MARINA;DALIL, RAHMAN, M.
分类号 C08L61/04;C08L61/06;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/023 主分类号 C08L61/04
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com