用于快速确定气体源或气体分配系统中杂质水平的方法

摘要

快速确定气体源杂质浓度的方法。测量设备通过具有配置在气体出口上游的入口的采样管与源气相连。烘烤采样管,结束时其中杂质的浓度分布包含2个区。第1区,气体入口延伸到下游一个点,杂质的汽相浓度小于采样管气体的杂质汽相浓度。第2区中,第1区延伸到出口,杂质汽相浓度大于采样管气体的杂质汽相浓度。一种快速确定把气体供给使用点的气体分配系统中杂质浓度的方法。适用于半导体制造业,测量供给处理设备的气体的杂质。

主权项

1.一种用于快速确定气体源中的杂质浓度的方法，包括：(a)提供气体源；(b)提供用于测量从气体源流出的气体中的杂质水平的测量设备，其中该测量设备通过采样管与气体源相连，该采样管具有配置在气体出口上游的气体入口；(c)按照一种烘烤方案来烘烤该采样管，使得当烘烤结束时，在采样管中的杂质浓度分布包含第1区和第2区，第1区从气体入口延伸到入口下游一点，在该区中杂质的汽相浓度小于进入采样管的气体中的杂质汽相浓度，第2区从第1区向下游延伸到气体出口，在该区中杂质的汽相浓度大于进入采样管的气体中的杂质汽相浓度。