| 发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR PLASMA TREATMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10150020(A) |
申请公布日期 |
1998.06.02 |
| 申请号 |
JP19960307860 |
申请日期 |
1996.11.19 |
| 申请人 |
SUMITOMO METAL IND LTD |
发明人 |
YANASE TOSHIHIRO;HOSOKI AKIHITO;HISADA MASAHIRO |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/205;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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