| 主权项 |
1.一种雷射效果投射座,其主要系于一基座上枢设有一可相对基座呈水平横向转动之入射座,而于入射座相对于与基座的枢设轴上设置有一贯穿至入射座内部的入射孔,并于入射座内相对于入射孔的位置上设置有一呈特定角度倾斜之反射镜,又于入射座上方枢设有一可相对入射座呈垂直纵向转动之反射座,于入射座及反射座间则穿设有一相对于反射镜之透孔,并于反射座内相对于透孔之位置上设置有两可相对呈轴向垂直并且可分别受控制转动之图案扫描镜。2.如申请专利范围第1项所述之雷射效果投射座,其中基座之截面略呈ㄩ形,于基座一侧面上穿设有一穿孔,于穿孔中穿设有一可螺入入射座之螺栓,又于基座另侧自由端侧缘凹设形成有与穿孔相对之入射孔槽,并于基座入射孔槽的相对外侧面上固设有一枢设下块,于枢设下块顶缘中央则凹设有一与入射孔槽相对并且可相互贯通之半圆弧形枢设凹槽,又于入射座之一侧面朝向基座入射孔槽垂直凸设有一容置于基座容置孔槽及枢设下块枢设凹槽之中空入射管,并且入射管中央呈贯通至入射座内部而形成一入射孔,另外于基座外侧枢设下块上方设置有一枢设上块,于枢设上块底缘则凹设有一相对于枢设下块枢设凹槽并可容置入射管之半圆弧形枢设凹槽。3.如申请专利范围第1项所述之雷射效果投射座,其中反射镜之设置角度为45度角。4.如申请专利范围第1项所述之雷射效果投射座,其中入射座顶面系呈开口状,于入射座顶缘设置有一呈截面呈ㄇ形而可用以封闭入射座顶端开口之枢盖,于枢盖顶缘相对于入射座中反射镜的位置上垂直向上凸设有一透孔管,于透孔管中央则形成贯穿至枢盖内部而与反射镜相对的透孔,又于反射座底缘穿设有一可供透孔管贯穿的枢孔。5.如申请专利范围第4项所述之雷射效果投射座,其中于反射座枢孔之一侧穿设有一延伸至反射座周缘的迫紧槽缝,于反射座周缘螺入有可贯穿迫紧槽缝之螺栓。6.如申请专利范围第4项所述之雷射效果投射座,其中反射座之一侧面呈开口状而呈ㄈ形截面,于反射座之开口侧面套设有一可封闭反射座开口侧面之外盖,于外盖上相对于两图案扫描镜的位置上设置有一透镜。图示简单说明:第一图:系本创作之立体外观图。第二图:系本创作之立体分解示意图。第三图:系本创作操作实施例之上视示意图。第四图:系本创作操作实施例之正视剖面示意图。第五图:系本创作转动反射座之立体示意图。第六图:系本创作转动入射座之立体示意图。第七图:系习用雷射效果投射座之立体示意图。 |
