发明名称 静态随机存取存储器及其制作方法
摘要 一种具有增进稳定性的SRAM存储单元,其包括的派通晶体管(pass transistors)的栅极利用氧化工序来定型,以使栅极的下缘被举升离开基底表面。由于负载与下拉晶体管(load and pull-down transistors)的栅极在氧化工序被遮蔽起来,负载与下拉晶体管的栅极可具有知的矩形造型。相对于流经下拉晶体管的电流,派通晶体管的栅极经过修改造型,减低了流经派通晶体管的电流,因而减低了数据由SRAM存储单元中被不恰当地损失掉的机会。
申请公布号 CN1180246A 申请公布日期 1998.04.29
申请号 CN96112726.0 申请日期 1996.10.14
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 孙世伟
分类号 H01L27/11 主分类号 H01L27/11
代理机构 柳沈知识产权律师事务所 代理人 杨梧
主权项 1、一种SRAM,其具有以位线进行寻址的多个SRAM存储单元,这些SRAM存储单元包括:一高参考电位接点与一低参考电位接点;一电荷存储节点;一下拉晶体管,其连接至该电荷存储节点与该低参考电位接点,该下拉晶体管具有一源极,一漏极与一下拉晶体管栅极;以及一派通晶体管,其连接至该电荷存储节点与一条位线,该派通晶体管具有一源极,一漏极与一派通晶体管栅极,派通晶体管栅极具有一下表面,其比该下拉晶体管的栅极的下表面被弯曲到更大的程度。
地址 台湾省新竹科学工业园区