| 发明名称 |
Gas flow system for cvd reactor |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
HK1000628(A1) |
申请公布日期 |
1998.04.09 |
| 申请号 |
HK19970102201 |
申请日期 |
1997.11.19 |
| 申请人 |
GI CORPORATION |
发明人 |
CHAN JOSEPH;GARBIS DENNIS;SAPIO JOHN;LATZA JOHN |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;C30B25/14;(IPC1-7):C23C;C30B |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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