发明名称 | 气液分散装置与气液接触装置及废水处理装置 | ||
摘要 | 气液分散装置与气液接触装置及废水处理装置是在用液体形成连续相流动,气体上的流动体系设置的装置,为形成气液混合相状态,在气液流路上配置挡断该气液流路的多孔板,在该多孔板面向气体流路入口侧延设构成隔开通路的导液通路,使导液通部和气体分散部分开。在供给气液时,在分散装置的气体分散部入口侧蓄积形成气相,能在抑制气液脉流的状态下使液体通过导液通路、气体通过除导液通路的多孔板的贯通孔。 | ||
申请公布号 | CN1177519A | 申请公布日期 | 1998.04.01 |
申请号 | CN97116258.1 | 申请日期 | 1997.08.27 |
申请人 | 株式会社日本催化剂 | 发明人 | 米田幸弘;米岛茂治;神田干彦;盐田祐介 |
分类号 | B01F3/04;C02F1/72;C02F3/02 | 主分类号 | B01F3/04 |
代理机构 | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人 | 黄永奎;朱进桂 |
主权项 | 1.一种气液分散装置,对于液体形成连续相液流,气体向上流动条件下所设置,其特征在于为形成气液混合相状态,气液流路上配置挡断该气液流路的多孔板,在该多孔板面向气体流路入口侧,延设构成隔开通路的导液通路,气体从多孔体通过使之分散,液体由导流通路引导通过导液通路。 | ||
地址 | 日本国大阪府 |