| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING PROCESSING CHAMBER CLEANING OR WAFER ETCHING ENDPOINT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IL140055(D0) |
申请公布日期 |
2002.02.10 |
| 申请号 |
IL19990140055 |
申请日期 |
1999.06.11 |
| 申请人 |
ON-LINE TECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
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| 分类号 |
G01N21/77;G01B9/02;G01N21/35;G01N33/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):G01B |
主分类号 |
G01N21/77 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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