| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé pour l'enduction de substrats par pulvérisation d'un flux gazeux à l'aide d'une décharge lumineuse par cathode creuse dans un courant gazeux inerte, des porteurs de charge supplémentaires étant introduits depuis l'extérieur dans la zone de décharge. L'invention concerne également un dispositif pour l'enduction de substrats (7) par pulvérisation d'un flux gazeux, comportant une cathode creuse (cathode creuse principale) (2) faisant office de cible, et un système d'introduction (4) du courant gazeux inerte, au moins une source de porteurs de charge (3) supplémentaire étant ménagée en direction du courant gazeux inerte devant ou à l'intérieur de la cathode creuse principale (2).</p> |
