发明名称 热处理方法及热处理装置
摘要 热处理方法,系包含:将成膜了low-k膜及配线层之晶圆W,收容于热处理炉41内之工程、和于热处理炉41内,将气相的无水醋酸藉由质流控制器44d而一面调整流量同时供给之工程、和将在供给了气相的无水醋酸之热处理炉41内的晶圆W,藉由设置于热处理炉41的加热器41b而加热的工程。
申请公布号 TW200818326 申请公布日期 2008.04.16
申请号 TW096127774 申请日期 2007.07.30
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 三好秀典;成岛正树
分类号 H01L21/324(2006.01);H01L21/00(2006.01) 主分类号 H01L21/324(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本