| 摘要 |
一种可重复抹写之RFID(Radio Frequency Identification)晶片卡之制程方法，其主要系将一聚氯乙烯(Polyvinyl Chloride,PVC)材质心层(内含RFID晶片)的两表面各黏贴有一聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,PET)材质之外层，需要时可于两外层上皆印刷上图样，最后，再于外层上、下之一或上下皆黏贴有一重复抹写膜(Thermal Rewrite Film,TRF)，再经由高温高压之特殊制程环境控制之方式，将其压制成一可重复抹写之RFID晶片卡；因此，藉由上述制程之步骤，制造出一种品质优良，功能创新的RFID晶片卡。 |
