发明名称 | 用于雾化的方法和设备 | ||
摘要 | 一种雾化方法和雾化设备,可以良好特性对各种材料进行雾化,有高清洁性,使设备更加紧凑,并可使各种成本保持较低的水平。使待雾化材料和液体通过一具有较大横截面面积的气室构件到达一设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件,通过气室构件和该部分与液体共振来产生超声波振动在待雾化材料上反复施加应力。方法的步骤:使待雾化材料和液体通过具有较大横截面面积的气室构件和到达设置有具有非常小的横截面面积通道的通道构件。 | ||
申请公布号 | CN1174752A | 申请公布日期 | 1998.03.04 |
申请号 | CN97114036.7 | 申请日期 | 1997.06.27 |
申请人 | SG工程株式会社;株式会社奇迹 | 发明人 | 内藤富久 |
分类号 | B01F5/20;B01F5/08 | 主分类号 | B01F5/20 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王兆先;杨松龄 |
主权项 | 1.一种用于将待雾化的材料与液体混合并且使该材料雾化的雾化方法,该方法包括下列步骤:使待雾化的材料和液体通过具有较大的横截面面积的气室构件到达一个设置有具有非常小的横截面面积的部分的构件;在所述通过步骤中,通过该气室构件和具有非常小的横截面面积的部分与液体共振,并且在待雾化的材料上反复地施加应力的方式产生超声波振动。 | ||
地址 | 日本东京都 |