| 发明名称 |
PRODUCTION OF SUBSTRATE HAVING SILICON DIOXIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1053492(A) |
申请公布日期 |
1998.02.24 |
| 申请号 |
JP19960224538 |
申请日期 |
1996.08.07 |
| 申请人 |
TOYO COMMUN EQUIP CO LTD |
发明人 |
FUJII YOICHI;MATSUMURA FUMIO |
| 分类号 |
C01B33/12;C03B19/14;C03B20/00;C30B29/18;(IPC1-7):C30B29/18;C03B8/04 |
主分类号 |
C01B33/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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