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发明名称 METHOD OF DETERMINING THE RADIATION DOSE IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND TEST MASK AND APPARATUS FOR PERFORMING THE METHOD
摘要
申请公布号 EP0821812(A1) 申请公布日期 1998.02.04
申请号 EP19970901225 申请日期 1997.02.10
申请人 PHILIPS ELECTRONICS N.V. 发明人 VAN DER WERF, JAN, EVERT;DIRKSEN, PETER;TENNER, MANFRED, GAWEIN
分类号 G03F7/20;G03F7/207;G03F9/00;H01L21/00;H01L21/027;H01L21/68;(IPC1-7):G03F7/207 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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