| 发明名称 |
Dry etching of transparent electrodes in a low pressure plasma reactor |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU3509997(A) |
申请公布日期 |
1998.01.21 |
| 申请号 |
AU19970035099 |
申请日期 |
1997.06.27 |
| 申请人 |
LAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
JOHN P. HOLLAND;ALEX T. DEMOS |
| 分类号 |
G02F1/1343;C03C17/23;C03C17/34;C04B41/53;C04B41/91;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;H01L31/18 |
主分类号 |
G02F1/1343 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
