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发明名称 Thermische Behandlungsmodul für Beschichtungs/Entwicklungseinrichtung für Substrat
摘要
申请公布号 DE69404778(T2) 申请公布日期 1997.12.18
申请号 DE1994604778T 申请日期 1994.06.17
申请人 SEMICONDUCTOR SYSTEMS, INC., FREMONT, CALIF., US 发明人 BICHE, MICHAEL R., UNION CITY, CA 94587, US;ANDERSON, ALEXANDER, SANTA CRUZ, CA 95060, US
分类号 G03F7/26;B65G49/07;H01L21/00;H01L21/027;H01L21/677;H01L21/683;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人
主权项
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