发明名称 等离子处理机及其处理方法
摘要 在大直径试样进行微细图形精密加工,提高微细加工时选择比的等离子处理装置及等离子处理方法。在具有真空处理室,试样台,以及等离子生成装置的等离子处理装置中,还有在一对电极之间的50至200MH<SUB>Z</SUB>VHF电源的高频电源,以及产生10高斯以上110高斯以下的静磁场或低频磁场的磁场形成装置。为使磁场沿下电极方向成分的最大部分位于上部电极面上或者偏向上部电极一侧,适当设定上述磁场形成装置,在上述一对电极间,形成电子回旋加速共振区。
申请公布号 CN1164122A 申请公布日期 1997.11.05
申请号 CN97103106.1 申请日期 1997.02.28
申请人 株式会社日立制作所 发明人 加治哲德;渡边克哉;三谷克彦;大坪彻;田地新一;田中润一
分类号 H01J37/305;C23F1/00;H01L21/461;H01L21/302 主分类号 H01J37/305
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.一种等离子处理机,在具有:真空处理室;包含一对电极的等离子体生成装置;试样台,它具有试样放置面,用于放置要在该真空处理室内处理的试样;以及对上述真空处理室抽真空减压的减压装置的等离子处理机中,其特征在于,还具有:高频电源,用于在上述一对电极之间加30MHz-300MHz的VHF频带的高频功率;以及磁场形成装置,用于形成静磁场或低频磁场,该磁场形成的方向与利用上述高频电源在上述一对电极之间或其附近生成的电场相交叉,在上述两个电极之间利用上述磁场和上述电场的相互作用来形成电子回旋加速共振区。
地址 日本山口县