| 发明名称 |
WASHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH09283480(A) |
申请公布日期 |
1997.10.31 |
| 申请号 |
JP19960085342 |
申请日期 |
1996.04.08 |
| 申请人 |
NIPPON STEEL CORP |
发明人 |
OTSUKA SUSUMU;KAMIMURA KENICHI;MORI YOSHIHIRO |
| 分类号 |
C30B33/10;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
C30B33/10 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
