发明名称 |
COATING SUBSTRATE |
摘要 |
<p>Beschichtungssubstrat, enthaltend ein Walzprodukt aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen, für Dünnfilmbeschichtungen zur Herstellung von elektronischen Komponenten. Das Beschichtungssubstrat verhindert die Interdiffusion von Substratelementen und Dünnfilmbeschichtungselementen und ermöglicht das vollständige Überwachsen von Unebenheiten durch die Dünnfilmbeschichtungen. Die lokal vorhandenen Unebenheiten auf der zu beschichtenden Substratoberfläche, welche eine maximale, vertikal zur Substratoberfläche gemessene Ausdehnung von kleiner als 10 mu m und grösser als 0.1 mu m aufweisen, sind dergestalt, dass die Flanken der lokalen Unebenheiten vollständig einer senkrecht auf die Substratoberfläche auftreffenden Material-Deposition aussetzbar sind.</p> |
申请公布号 |
WO9738145(A1) |
申请公布日期 |
1997.10.16 |
申请号 |
WO1997CH00130 |
申请日期 |
1997.03.27 |
申请人 |
ALUSUISSE TECHNOLOGY & MANAGEMENT AG;GOETZ, MICHAEL;HOTZ, WALTER;KEPPNER, HERBERT |
发明人 |
GOETZ, MICHAEL;HOTZ, WALTER;KEPPNER, HERBERT |
分类号 |
C22C21/00;C22F1/04;C23C16/02;H01L31/0392;H01L31/056;(IPC1-7):C22C21/00;H01L31/00 |
主分类号 |
C22C21/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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