| 发明名称 |
FORMATION OF THIN FILM BY OBLIQUE DISCHARGE PLANAR TYPE MAGNETRON SPUTTERING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09256151(A) |
申请公布日期 |
1997.09.30 |
| 申请号 |
JP19960090413 |
申请日期 |
1996.03.18 |
| 申请人 |
AGENCY OF IND SCIENCE & TECHNOL |
发明人 |
ISHIDA TADASHI |
| 分类号 |
C23C14/35;C23C14/34;C23C14/44;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):C23C14/44 |
主分类号 |
C23C14/35 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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