一种防伪标志的制备方法

摘要

本发明涉及一种防伪标志的制备方法，该方法是用厚度为5～30μ的高分子薄膜为原料，将该薄膜与一镂空有防伪图案的模板相重合，用离子加速器或核材料裂变碎片有控制地辐射，产生核径迹图案，再用紫外光照射氧化，最后用酸或碱蚀刻，形成防伪图案。本发明制备的防伪图案可用肉眼观察，也可用显微镜观察图案中圆孔的直径大小及孔密度，进一步微观识别真伪。而制备时必须具备核技术及尖端设备，无法轻易仿制，因而具有理想的防伪效果。

主权项

1、一种防伪标志的制备方法，其特征在于该方法包括下列各步骤：(1)在一模板上刻出防伪图案，将图案部分镂空，或将图案背景部分镂空；(2)选取厚度为5～30μ的高分子薄膜，将此薄膜与模板相合；(3)以高能重离子从模板一侧向模板辐照，控制辐照的强度和时间以使高分子薄膜上的核径迹的孔密度为104～108/CM2；(4)对高分子薄膜进行紫外光照射氧化，氧化时间1～30分钟；(5)用酸或碱溶液对高分子薄膜进行蚀刻，蚀刻温度40～80℃之间，蚀刻时间为5～30分钟，使径迹上的孔径范围为0.1μ＜d＜10μ，薄膜上即形成防伪标志。