发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING TEMPERATURE IN PLASMA PROCESSING |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH09172003(A) |
申请公布日期 |
1997.06.30 |
申请号 |
JP19960235651 |
申请日期 |
1996.09.05 |
申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
MAIKERU RAISU;DEIBUITSUDO DABURIYUU GUROOSHIERU;JIEIMUZU KURUUZU;KENNESU ESU KORINZU |
分类号 |
C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C23F4/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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