发明名称 |
离子束增强沉积合成氮化钛薄层的方法 |
摘要 |
本发明是一种用氙或氩或其它惰性气体离子束增强沉积合成氮化钛薄层的方法。属于用离子束对物件表面改性处理技术,本发明方法是将物件置于离子束增强沉积系统的靶室中,在电子束蒸发、沉积钛时,利用活性钛对通入靶室氮的吸附,用惰性气体离子束轰击沉积在物件表面的钛及其吸附的氮,以形成高质量氮化钛保护层,使用本方法形成的保护层与物件基体粘着力强、均匀、致密、稳定,提高了物件表面硬度,大大延长了物件使用寿命。 |
申请公布号 |
CN1035201C |
申请公布日期 |
1997.06.18 |
申请号 |
CN90102976.9 |
申请日期 |
1990.11.01 |
申请人 |
中国科学院上海冶金研究所 |
发明人 |
郑志宏;王曦;周祖尧;杨根庆;柳襄怀;黄巍;邹世昌;杨碕 |
分类号 |
C23C14/30;C23C14/06 |
主分类号 |
C23C14/30 |
代理机构 |
上海华东专利事务所 |
代理人 |
沈德新 |
主权项 |
1.一种离子束增强沉积合成氮化钛薄层的方法,包括对物件表面化学清洗和离子束清洁处理工艺,其特征在于,将物件经化学清洗、干燥后放入离子束增强沉积系统的靶室中,室温下,当靶室基础真空度达到5-9×10-5Pa后,向靶室中通入至少99.99%的高纯氮气,靶室真空度降为5-6×10-4Pa,再将至少99%的惰性气体通入离子源,靶室真空度为0.8-1×10-3Pa时,预处理物件表面,接着,用电子束蒸发纯度至少99%的高纯钛,然后用25-40keV能量,束流密度35-45μA/cm2的惰性气体离子束轰击电子束蒸发沉积中的钛和钛吸附的氮,以合成结构稳定、粘着力强、均匀、致密的氮化钛薄层,且边轰击边蒸发时,钛的蒸发沉积速率为10埃/秒。 |
地址 |
200050上海市长宁区长宁路865号 |