发明名称 Positiv arbeitende Fotoresistzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69500160(T2) 申请公布日期 1997.06.05
申请号 DE19956000160T 申请日期 1995.03.16
申请人 FUJI PHOTO FILM CO., LTD., MINAMI-ASHIGARA, KANAGAWA, JP 发明人 KAWABE, YASUMASA, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;SATO, KENICHIRO, C/O FUJI PHOTO FILM CO.,LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;AOAI, TOSHIAKI, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;UENISHI, KAZUYA, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP
分类号 G03F7/022;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/022 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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