发明名称 |
MICROWAVE PLASMA TREATMENT DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH09134797(A) |
申请公布日期 |
1997.05.20 |
申请号 |
JP19960242909 |
申请日期 |
1996.09.13 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
YASUNAMI HISAO;OGAWA YOSHIFUMI;KAJI TETSUNORI;TAMURA NAOYUKI |
分类号 |
H05H1/46;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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