发明名称 用于电子元件制造框架的预处理方法和设备
摘要 提供了一种用于冲切制备的电子元件制造框架的预处理方法。该方法包括朝框架喷射夹带在高速气流中的磨砂,其中磨砂具有的平均直径不大于200微米,最好为不大于100微米,特别是不大于50微米。用玻璃制造磨砂更为有利。
申请公布号 CN1034895C 申请公布日期 1997.05.14
申请号 CN94104893.4 申请日期 1994.03.22
申请人 山春荣吉 发明人 山春荣吉
分类号 H01L23/48;H01L23/50;H01L23/02 主分类号 H01L23/48
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 章社杲
主权项 1.一种电子元件制造框架的预处理方法,其特征在于,该方法是用于在框架被用于制造电子元件之前去除其应力,所述框架是由冲切制备而成,该方法包括:嘲框架喷射夹带在高速气流中的磨砂,磨砂具有的平均直径不大于200微米。
地址 日本大阪府