发明名称 ELECTROPLATING PLANT
摘要 <p>Eine Galvanikanlage weist einen Galvanisierbehälter und einen Versorgungsbehälter auf, zwischen denen der Elektrolyt zirkuliert. Im Versorgungsbehälter erfolgt dabei die Ergänzung des Metallgehaltes des Elektrolyten durch eine lösliche Anode, der eine Hilfskathode zugeordnet ist, die sich in einem Hilfskatholyten befindet, der vom Elektrolyten über ein metallionen-undurchlässiges Diaphragma abgetrennt ist. Die unlöslichen Anoden des Galvanisierbehälters befinden sich in einem Hilfsanolyten, der vom Elektrolyten über anionen-undurchlässige Diaphragmen abgetrennt ist. Der wesentliche Vorteil dieser Lösung besteht darin, daß unlösliche Anoden eingesetzt werden können, daß aber auch die für präzise Beschichtungen beispielsweise im Leiterplattenbereich unerlässliche Prozeßorganik eingesetzt werden kann. Eine besonders vorteilhafte Weiterbildung sieht vor, daß der Hilfskatholyt und der Hilfsanolyt in einem gemeinsamen Kreislauf geführt sind, wodurch sich gegenläufige Verschiebungen des pH-Wertes von Hilfskatholyt und Hilfsanolyt durch deren kontinuierliche Vermischung weitgehend kompensieren.</p>
申请公布号 WO1997015704(A2) 申请公布日期 1997.05.01
申请号 DE1996001936 申请日期 1996.10.11
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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