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发明名称 METHOD OF FORMING FIELD OXIDE LAYER OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR1019970006216(B1) 申请公布日期 1997.04.24
申请号 KR1019940004788 申请日期 1994.03.11
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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