发明名称 生长激光二极管中量子阱的分子束外延系统的操作方法
摘要 用原子层外延(ALE)和/或迁移增强外延(MEE)生长II-VI族激光二极管的高效率量子阱的方法。激光二极管衬底和初始生长层在MBE生长室内被加热至小于或等于约200℃的温度。Cd、Zn和Se被交替注入生长室以生长短周期应变层超晶格(SPSLS)量子阱层,其中包含重迭的Cd、Zn和Se单原子层。量子阱层用式[(CdSe)m(ZnSe)n]p表述,其中m、n和p为整数。
申请公布号 CN1034455C 申请公布日期 1997.04.02
申请号 CN93105939.9 申请日期 1993.05.21
申请人 明尼苏达州采矿制造公司 发明人 程华;詹姆斯·M·德普伊特;迈克尔·A·哈泽;邱军
分类号 H01S3/19;H01L33/00;H01L21/20 主分类号 H01S3/19
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.一种生长激光二极管中量子阱的分子束外延(MBE)系统的操作方法,该系统有一个生长室和至少一种II族元素源及至少一种VI族元素源,用以在II-VI族化合物半导体电发光器件制作期间,在一衬底及任意初始生长层上生长量子阱有源层,该方法包括:在MBE生成室中加热衬底和初始生长层,把衬底和初始生长层加热到小于或等于200℃;向MBE生成室中交替注入II族和VI族元素;生长至少包含两层II族和VI族元素的重叠单原子层的量子阱层。
地址 美国明尼苏达州
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