发明名称 在真空处理机中用于介电工件之静电夹持方法及装置
摘要 一电介质工件系被夹紧于在一真空电浆处理机室内之固定器上,藉施加电浆至暴露于电浆之工件之一表面,在同一时间以应用较高电压至固定器之电极。此电极系在紧密接通未暴露于电浆之工件部分,因此,(1),此电极系有一大体上不同于电浆之电压 (1), (2),静电荷系藉电浆而应用于暴露之表面,以及 (3),一电导线路系经由电浆自静电荷,以一电势大件上不同于应用于此电极之电压者,提供至一端子。充分之静电夹持力量,系藉应用于单电极整直流电压和藉电浆所施加之电荷之间之电压差而应用于暴露面,以夹持此基体在固定器上。
申请公布号 TW301787 申请公布日期 1997.04.01
申请号 TW084110827 申请日期 1995.10.14
申请人 兰研究公司 发明人 保罗K.萨夫尔波汉;麦克S.巴恩斯
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1. 一种夹紧一电介质工件在真空电浆处理机室内一固定器之方法,包含施加电浆至暴露于电浆之工件之一表面,而在同一时间以施加一较高电压至此固定器之电极,此电极系实质地配置,因此它系在一大体上不同于来自电浆之电压之高电压,此电极系紧密地靠近未暴露于电浆之工件之部分,因此:(1),此电极系有一大体上不同于电浆之电压,(2),一静电电荷系藉电浆而应用于暴露之工件表面,以及(3),一电导路线系自工件表面经由此电浆提供至一端子,而此端子是有一大体上不同于应用于电极之电压之电位,此静电电荷和电导线路系如此,即它们促使一静电力量被开展于工件和固定器之间。2. 如申请专利范围第1项之方法,其中此电压系直流,以及足够的静电力量系藉应用于电极之直流电压和由电浆应用于暴露面以紧握固定器上基体之电荷之间之电压差,通过工件之厚度而施加。3. 如申请专利范围第2项之方法,其中多个该电极系经提供,并施加相同直流电压至每一该多个电极。4. 如申请专利范围第2项之方法,其中多个该电极系经提供,并施加不同直流电压至该多个电极之各不同之一个。5. 如申请专利范围第4项之方法,其中电压有相同之极性。6. 如申请专利范围第4项之方法,其中电压有不同之极性。7. 如申请专利范围第4项之方法,另包括改变应用于该多个电极之不同一个之相同极性之不同直流电压之値。8. 如申请专利范围第1项之方法,另包括藉进给一流体通过此固定器以控制工件之温度。9. 如申请专利范围第8项之方法,其中此流体系一种气体,系经由固定器而应用于未暴露于电离子之工件之部分,此施加之气体有背离固定器弯翘此工件之趋势,此弯翘趋势系由静电力量来克服。10. 如申请专利范围第8项之方法,其中此流体系一液体,它流经此固定器以冷却此固定器,转移藉冷却此固定器所提供之热效应以通过固定器之热导率至工件。11. 在一组合中,一真空电浆处理机室,用以应用气体电离子之有一电位大体上相等对一电介质工件之暴露表面之标准电位,一静电夹在室内,用以夹紧此工件于室内适当位置,此静电夹有一电极,用以保持此电极在一大体上不同于标准电位之电位之装置,此电极系如此地保持此一电位,以及当电浆系正施加至电介质工件表面时此电极系以工件表面为准而定置,俾使藉电浆应用于暴露表面之电荷形成自此暴露表面经由电浆以此标准电位至一端子之电导线路之部分,因此在表面上之电荷系大体上以相等于标准电位之电位,以及一基本电压系建立于电极和表面上电荷之间,此基本电压建立一静电夹紧力量于电极和表面之间,用以紧握此工件在夹上之适当位置,以及用以通过此夹进给一流体而用以控制此工件温度。12. 如申请专利范围第11项之组合,其中此工件包含一玻璃基体板,因此,其暴露表面大体上系一平坦面,此基体有一背面要被夹紧于静电夹内,以及此电极包含一金属板之有一大体上为平坦面面向此工件之后面,并放置在平行于工件之暴露表面之一平面中,除了面向工件后面之金属板之平坦面之部分外,一电绝缘体系包围着此电极之表面,用以防止此电极之电接触室内之电离子。13. 如申请专利范围第12项之组合,此电极面系呈裸状,因此,电极面和自暴露面相对之电介质板之面相抵靠。14. 如申请专利范围第12项之组合,其中此电极面系由一保护涂层所覆盖,此保护涂层有一面紧抵自暴露表面相对之工件之一面。15. 如申请专利范围第14项之组合,其中此保护涂层系一半导体。16. 如申请专利范围第14项之组合,其中此保护涂层系一半金属。17. 如申请专利范围第14项之组合,其中此保护涂层系一薄电介质层。18. 如申请专利范围第12项之组合,其中此电极有一面经配置以抵靠相对于暴露表面之工件之一表面,该面系经配置以对工件施加一气体,用以控制被夹紧工件之温度。19. 用以夹紧一电介质工件于真空电浆处理机室内之装置,包含一静电夹在室内,用以紧握此工件,此夹包括一电极,用以施加电浆至工件之暴露于电浆之表面之装置,一较高单极性电压源连接着夹头之电极,此电极系实质上如此配置,因此它系以一大体上不同于来自电浆之电压之较高电压,此电压系紧密地靠近未暴露于电浆之工件之之部分,因此,(1),此电极系以大体上不同于来自电浆之电压之一直流电压,(2),一直流静电电荷系藉此电浆而应用于暴露之工件表面,以及(3),一导电线路系经由电浆自工作表面提供至一端子,在此端子处之电位大体上不同于应用于电极之电压,此静电电荷和导电线路系如此,即它们促使一静电力量被开展于工件和夹头之间,此静电力量系藉应用于电极之直流电压和由电浆对暴露面以紧握此基体在夹头上所施加之电荷之间之电压差,通过工件之厚度而施加。20. 如申请专利范围第19项之装置,其中多个该电极系经提供,同一直流电压系连接至每一该多个电极。21.如申请专利范围第19项之装置,其中多个该电极系经提供,不同直流电压之相同极性者系连接至多个电极之不同之一个。22. 如申请专利范围第19项之装置,其中多个该电极系经提供,不同极性之不同直流电压系连接至多个电极之不同之一个。23. 如申请专利范围第19项之装置,其中该夹头仅包括一个电极。图示简单说明:第1图为一真空电浆处理机之示意图,包含一静电夹须用以握持一玻璃,电介质工件片材于其适当位置;第2图为特别适合使用于第1图之处理机之单极静电夹头实施例之一侧面剖视图,此夹头与此玻璃,电介其工件片相组合;第3图为第2图内所说明之结构之俯视图,但无该玻璃,电介质工件片于适当位置中;以及第4图为第2图内所说明之结构之一变更之侧视图,包括一
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