APARATO PARA TRATAMIENTOS RAPIDOS CON PLASMA Y METODO.

摘要

UN APARATO DE TRATAMIENTO DE PLASMA ES UTIL PARA REVESTIR SUBSTRATOS CON PELICULAS FINAS QUE TIENEN UNAS PROPIEDADES DE BARRERA DE VAPOR PARA PROPORCIONES DE DEPOSICION RELATIVAMENTE RAPIDAS. EL APARATO COMPRENDE UNA CAMARA EVACUABLE, UN ELECTRODO CARGADO ELECTRICAMENTE QUE DEFINE UNA SUPERFICIE DE REVESTIMIENTO DE PLASMA DENTRO DE LA CAMARA, Y UN BLINDAJE ESPACIADO UNA DISTANCIA DELTA TRANSVERSAL A LA SUPERFICIE DE REVESTIMIENTO DE PLASMA. DURANTE LOS TRATAMIENTOS DE PLASMA, EL PLASMA SE CONFINA DENTRO DE UNA DISTANCIA DELTA MIENTRAS UN SUBSTRATO SE DESPLAZA A TRAVES DEL PLASMA CONFINADO.