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发明名称
PLASMA ETCHING METHOD FOR NIOBIUM THIN FILM
摘要
申请公布号
JPH0945663(A)
申请公布日期
1997.02.14
申请号
JP19950190568
申请日期
1995.07.26
申请人
SONY CORP
发明人
SATO JUNICHI
分类号
H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L39/22;H01L39/24;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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