Verfahren zum Messen des Grades der Planheit einer dielektrischen Schicht in einer integrierten Schaltung und integrierter Schaltung mit einer Anordnung zur Durchführung dieses Verfahrens
摘要
申请公布号
DE69216223(D1)
申请公布日期
1997.02.06
申请号
DE19926016223
申请日期
1992.07.15
申请人
SGS-THOMSON MICROELECTRONICS S.R.L., AGRATE BRIANZA, MAILAND/MILANO, IT
发明人
LOSAVIO, ALDO, 24100 BERGAMO, IT;CRISENZA, GIUSEPPE PAOLO, I-20056 TREZZO D'ADDA (MI), IT;DE SANTI, GIORGIO, I-20124 MILANO, IT
