发明名称 曝光印相用原版的制作方法
摘要 一种曝光印相用原版的制作方法,当在由面向或紧帖在板状被曝光部件的两面上所形成的感光膜而进行配置的第1、第2原版所组成的一对原版上形成同轴的负图形之际,就第1原版而言从用光绘图器绘出的负图形形成正或负图形,并通过紧帖印相从此图形形成原版的负图形;同时就第2原版而言,使用正型干板从用光绘图器绘出的负图形直接形成原版的负图形。此方法可用于制造高析象度的彩色显象管用荫罩。
申请公布号 CN1028916C 申请公布日期 1995.06.14
申请号 CN89102822.6 申请日期 1989.04.24
申请人 东芝株式会社 发明人 田中裕;工藤诚
分类号 G03F7/00;H01J9/14;H01J29/07 主分类号 G03F7/00
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 颜承根
主权项 1.一种曝光印相用原版的制作方法,上述曝光印相用原版为由其上分别形成有同轴的负图形的第1原版和第2原版组成的一对原版,且可将上述第1原版和第2原版配置成分别面向形成在板状被曝光部件的两个面上的感光膜或紧贴上述感光膜,上述第1原版的制作方法是使用负型干板,通过紧贴印相方式从用光绘图器所描绘出的负图形依次形成正图形和负图形,从而形成上述曝光印相用的第1原版的负图形,其特征在于上述第2原版的制作方法是使用正型干板,从用光绘图器描绘的负图形直接形成上述曝光印相用第2原版的负图形。
地址 日本神奈川县川崎市