发明名称 |
化学循环清除糖厂蒸发罐积垢的方法 |
摘要 |
本发明涉及到钙垢的清除,尤其是制糖工业中糖垢的清除方法及清除剂。本发明所述方法的步骤为:一、预处理阶段:用预清除剂在温度为80-95℃、流速为0-0.5m/s的条件下处理2-6小时;二、排液,水冲洗,使冲洗水的pH值降至8-9;三、处理阶段:用清除剂在温度为35-45℃、流速为0.5-0.8m/s的条件下循环清洗4-8小时,四、排液,水冲洗,使冲洗水的pH值为5-7。 |
申请公布号 |
CN1033984C |
申请公布日期 |
1997.02.05 |
申请号 |
CN91105475.8 |
申请日期 |
1991.08.12 |
申请人 |
刘沣 |
发明人 |
刘沣 |
分类号 |
C23G1/18;C23F14/02;C02F5/08 |
主分类号 |
C23G1/18 |
代理机构 |
云南省专利事务所 |
代理人 |
张怡 |
主权项 |
1、一种化学循环清除糖厂蒸发罐积垢的方法,包括予处理阶段、水冲洗、处理阶段、水冲洗,其特征在于:予处理阶段系采用清除剂在温度为80-95℃、流速为0-0.5m/s的条件下处理2-6小时,处理阶段采用清除剂在温度为35-45℃、流速为0.5-0.8m/s的条件下循环清洗4-8小时,所述的予清除剂为:NaOH 0.8-1%、Na2CO30.5-1%、X 0.2-0.6%(X=Na3PO4、Na2HPO4、NaH2PO4中至少一种),所述的清除剂为:HCl 0.05-1%、Y 0.3-0.5%(Y=HF、H2SiF6中的任意一种)、缓蚀剂0.3-0.5%、表面活性剂0.5-1%、添加剂1-2%(重量百分比)。 |
地址 |
650027云南省昆明市云津市场86号 |