发明名称 化学循环清除糖厂蒸发罐积垢的方法
摘要 本发明涉及到钙垢的清除,尤其是制糖工业中糖垢的清除方法及清除剂。本发明所述方法的步骤为:一、预处理阶段:用预清除剂在温度为80-95℃、流速为0-0.5m/s的条件下处理2-6小时;二、排液,水冲洗,使冲洗水的pH值降至8-9;三、处理阶段:用清除剂在温度为35-45℃、流速为0.5-0.8m/s的条件下循环清洗4-8小时,四、排液,水冲洗,使冲洗水的pH值为5-7。
申请公布号 CN1033984C 申请公布日期 1997.02.05
申请号 CN91105475.8 申请日期 1991.08.12
申请人 刘沣 发明人 刘沣
分类号 C23G1/18;C23F14/02;C02F5/08 主分类号 C23G1/18
代理机构 云南省专利事务所 代理人 张怡
主权项 1、一种化学循环清除糖厂蒸发罐积垢的方法,包括予处理阶段、水冲洗、处理阶段、水冲洗,其特征在于:予处理阶段系采用清除剂在温度为80-95℃、流速为0-0.5m/s的条件下处理2-6小时,处理阶段采用清除剂在温度为35-45℃、流速为0.5-0.8m/s的条件下循环清洗4-8小时,所述的予清除剂为:NaOH 0.8-1%、Na2CO30.5-1%、X 0.2-0.6%(X=Na3PO4、Na2HPO4、NaH2PO4中至少一种),所述的清除剂为:HCl 0.05-1%、Y 0.3-0.5%(Y=HF、H2SiF6中的任意一种)、缓蚀剂0.3-0.5%、表面活性剂0.5-1%、添加剂1-2%(重量百分比)。
地址 650027云南省昆明市云津市场86号