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发明名称 Method for formation of a polycrystalline semiconductor film
摘要
申请公布号 EP0731493(A3) 申请公布日期 1997.01.22
申请号 EP19960300326 申请日期 1996.01.17
申请人 APPLIED KOMATSU TECHNOLOGY, INC.;SEIKO EPSON CORPORATION 发明人 LAW, KAM S.;KAKIMOTO, MASAO;ROBERTSON, ROBERT;MIYASAKA, MITSUTOSHI
分类号 G02F1/136;C23C16/24;C23C16/56;C30B29/06;C30B33/04;G02F1/1368;H01L21/20;H01L21/205;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 G02F1/136
代理机构 代理人
主权项
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