发明名称 PLASMA PROCESSING METHOD
摘要
申请公布号 JPH0922900(A) 申请公布日期 1997.01.21
申请号 JP19960052845 申请日期 1996.03.11
申请人 HITACHI LTD 发明人 KOTANI TETSUJIRO
分类号 C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
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