| 发明名称 |
HIGH-FREQUENCY PLASMA CVD APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0917778(A) |
申请公布日期 |
1997.01.17 |
| 申请号 |
JP19950187665 |
申请日期 |
1995.07.03 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;FUJITSU VLSI LTD |
发明人 |
HATANAKA MASANOBU;AOKI YUSUKE |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/50;H01L21/205;H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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