| 主权项 |
1. 一种含有宽幅分子量分布之乙烯聚合物之制法,该共聚物含有0至20莫耳%之-烯烃类CH@ss2=CHR,式中R是含有1至10个碳原子之烃基,其中所使用之一种催化剂系包括下列成份(A)和成份(B)间之反应产物;(A) 一种具有球状形态之固态成份,系包括一种钛化合物,承载于卤化镁上,含有至少一种钛—卤素键要可选择性地含有与卤素不相同之基,其含量对每莫耳钛而言系0至为0.3莫耳,而该成份藉由BET法所测得之表面积为介于40和60平方公尺/克之间,藉由水银法所测得之全部孔隙度为介于0.6和0.9立方公分/克之间,而至少50%之孔隙半径为大于800埃;及(B) 一种铝—烷基化合物。2. 如申请专利范围第1项之制法,其中存在于固态成份之钛化合物,是选自四氯化钛(TiCl@ss4)和三氯化钛(TiCl@ss3)。3. 如申请专利范围第1项之制法,其中该铝—烷基化合物是铝—三烷基。4. 如申请专利范围第1项之制法,其中该成份(A)系根据包括下列二者间之反应之制法而制得;(Ⅰ) 一种MgCl@ss2mROH化合物,其中0≦m≦0.5,且R是含有1至12个碳原子之烷基、环烷基或芳基;(Ⅱ) 一种具化学式Ti(OR)@ssn X@ssy @ssn之钛化合物,其中该n是介于并包括0和0.3之间,y是钛之价数,X是卤素,且R是含有2至8个碳原子之烷基或为一种COR基;其中化合物(I)系藉由将加成物MgCl@ss2qROH(2.5≦q≦3.5)进行热脱醇反应后,接着再将所获得之加成物MgCl@ss2pROH(0.1≦p≦2)进行化学脱醇反应而制得,且在化合物(Ⅱ)和化合物(Ⅰ)间之反应之钛/镁莫耳数比为高于3。5. 如申请专利范围第4项之制法,其中该钛化合物(Ⅱ)是四氯化钛(TiCl@ss4)。6. 如申请专利范围第4项之制法,其中该化合物(Ⅱ)是四氯化钛,且化合物(Ⅰ)与化合物(Ⅱ)间之反应是在四氯化钛中进行。7. 如申请专利范围第1项之制法,其中该聚合反应是在气相中进行。8. 如申请专利范围第1项之制法,其中该聚合反应是在单一反应器中进行,藉此所制得之聚合物显示熔流指数比(F/E)为大于90。9. 如申请专利范围第7项之制法,其中该聚合反应是在单一反应器中进行,藉此所制得之聚合物显示熔流指数比(F/E)为大于90。10. 如申请专利范围第1项之制法,其中该聚合反应是在不同条件下操作之两个或多个反应器中进行。11.如申请专利范围第1项之制法,其中该聚合反应是在不同分子量调节剂浓度下操作之两个或多个反应器中进行。12. 如申请专利范围第11项之制法,其中该分子量调节剂是氢气。13. 如申请专利范围第12项之制法,其中该聚合反应是在气相中进行。14. 如申请专利范围第7项之制法,其中该聚合反应是根据下列步骤来进行:(a) 在不含可聚合之烯烃类或可选择性地对每克固态成份(A)而言,包含不高于20克之该烯烃类之条件下与催化剂成份接触;(b) 乙烯或其与一种或以上-烯烃类之混合物之预聚合反应,而该混合物含有0至20莫耳%之-烯烃类,以形成聚合物含量对每克固态成份(A)而言,系为从30克至最多为1,000克;(c) 乙烯或其与一种或以上之-烯烃类CH@ss2=CHR之混合物之气相聚合反应,其中该R是一种含有1至10个碳原子之烃基,而该气相聚合反应系在一或多个流体化床或机械式搅动床反应器中进行,系利用来自步骤(b)之预聚物—催化剂系统,并以一种含有3至5个碳原子之烷类在各反应器间循环流动,而该烷类之浓度对全部气体而言,为自20至90莫耳%。15. 如申请专利范围第14项之制法,其中在预聚合反应步骤(b)中,对每克之固态成份(A)而言,可制得100克至400克之聚合物。16. 如申请专利范围第14项之制法,其中该烷类是丙烷。17. 如申请专利范围第16项之制法,其中该聚合反应是在含有不同氢气浓度之二或更多之步骤中进行。18.在申请专利范围第7项之制法,其中该聚合反应是在含有不同条件之两个反应器中进行,且其中在第二反应器中所形成之聚合物系至少部分再循环至第一反应器中。19. 如申请专利范围第1至18项中任一项之制法,其中可 |
