| 主权项 |
1. 一种家用水处理装置,其系供诸如一浴室水槽、 一家 用空气调节排水盘或一家用增湿器等之一家用水 处理装置 用,该家用水处理装置包括: 一壳体(20),其具有使它可被插入该家用水处置装 置之一 含水部份中的大小和形状,该壳体包括被定置及配 置以供 使水能够流动于该含水部份与该壳体之间的一些 开口(27 、31); 在该壳体中之永久磁铁装置(26.28),其在一水经由 诸开 口流动通过该壳体的流动路径中,以供聚集在水中 接触该 磁铁装置之自由离子; 该壳体包括一消毒剂(30),以供中和流动于该壳体 中之水 中的细菌,该消毒剂包括一在塑胶载体中之有机抗 菌剂表 面剂,由此该抗菌剂表面剂与该载体形成一胶质悬 浮物, 该胶质悬浮物移动至塑胶载体之表面上。2. 如申 请专利范围第1项所述之家用水处理装置,其中该 消毒剂(30)系以一个团块状插入该壳体(20)之一室 内。3. 如申请专利范围第1项所述之家用水处理装 置,其中该 消毒剂系被包括于形成该壳体之一外部表面(22.24) 的一 个聚合物中。4. 一种家用水处理装置,其系供诸如 一浴室水槽、一家 用空气调节排水盘或一家用增湿器等之一家用水 处理装置 用,该家用水处理装置包括: 一壳体(20),其具有使它可被插入该家用水处置装 置之一 含水部份中的大小和形状,该壳体包括被定置及配 置以供 使水能够流动于该含水部份与该壳体之间的一些 开口(27 、31); 在该壳体中之永久磁铁装置(26.28),其在一水经由 诸开 口流动通过该壳体的流动路径中,以供聚集在水中 接触该 磁铁装置之自由离子; 该壳体包括一消毒剂(30),以供中和流动于该壳体 中之水 中的细菌,该壳体包括一底座(22),其被组构成使得 该等 开口中之一在该底座中,并且该一开口与该家用水 处理装 置之该含水部份之一底板(36)相间隔,而该底座系 静置于 该底板上,该壳体系被组构成使得(a)当该壳体被置 于该 家用水处置之水顶部表面上并因此而自由降落至 该底板时 ,该底座确保静置于该底板上;以及(b)水接触到该 磁铁 装置之每一永久磁铁之二极化面的一主要部份。5 . 如申请专利范围第4项所述之家用水处理装置,其 中该 壳体(20)系被组构成使得当该壳体降落至该底板(36 )时, 在该壳体中形成之一空气泡(32)抵靠一与该底座远 (22)离 之该壳体的表面,且当该底座静置于该底板上时, 该空气 泡保持抵靠该表面。6. 如申请专利范围第4项所述 之家用水处理装置,其中该 壳体(20)包括有一底座(22),而该磁铁装置紧固于其 上; 以及一紧固于该底座上之盖板,该盖板包括一些在 该磁铁 装置之一极化面上方的该等开口,且在该等开口下 方定置 一种结构(52),该结构系定置成该永久磁铁装置从 该盖板 上方及所有侧方的观察视线均被阻隔。7. 如申请 专利范围第6项所述之家用水处理装置,其中在 该盖板中之该等一些开口包括一些沟槽(50),且在 该等开 口下方之该结构包括配置以增加该盖板之结构性 强度之数 个肋部(52),每一该等沟槽及肋部系对齐排列且具 有相近 之大小之形状。8. 一种家用水处理装置,其系供诸 如一浴室水槽、一家 用空气调节排水盘或一家用增湿器等之一家用水 处理装置 用,该家用水处理装置包括: 一壳体(20),其具有使它可被插入该家用水处理装 置之一 含水部份中的大小和形状,该壳体包括被定置及配 置以供 使水能够流动于该含水部份与该壳体之间的一些 开口(27 、31); 在该壳体中之永久磁铁装置(26.28),其在一水经由 诸开 口流动通过该壳体的流动路径中,以供聚集在水中 接触该 磁铁装置之自由离子; 该壳体包括一消毒剂(30),以供中和流动于该壳体 中之水 中的细菌,该壳体(22)包括一底座及一盖板(24),该底 座 具有该等开口(31)之一,而该盖板具有一些该等开 口(27) ;该盖板系紧固室该底座上,该永久磁铁装置(26.28) 包 括一对紧固至该底座之平坦永久磁铁,使得它们系 在该底 座及盖板之一共同横向中心平面(44)的相反侧上, 并且每 一磁铁之二极面之实质部分接触到在该壳体中之 水,该等 极面大致平行于该底座之一内部底板,该底座具有 一附有 向下悬垂足部(34)之外部底板(84),该等足部系供接 触该 家用水处置装置之该含水部份之一底板(36),并且 用以将 在该底座(22)上之该开口(31)与该家用水处置装置 之该含 水部份之该底板(36)相间隔,一室(70)形成于该底座 内部 底板上位于中心平面上,该消毒剂被包括于含有一 抗菌聚 合物之一塑胶团块(30)中,该团块系保持定位于该 室内, 一对隔间(60)系形成于该盖板中,以供当该壳体自 由地在 该家用水处置装置之该含水部份中下降部,捕捉形 成空气 泡(32)之空气,该隔间系由从该盖板之一板顶向下 悬垂并 且在该等磁铁之诸顶部极面稍上方处终止的一对 壁体(54) 所界定,每一该等磁铁系被从该底座之该内部底板 向上延 伸并且与每一磁铁之该上方极化面相啮接的一个 弹簧指部 (106)予以保持于定位。9. 如申请专利范围第1项所 述之家用水处理装置,其中该 消毒剂(30)被定置于来自该磁铁装置(26.28)之磁场 为最 大之处。10. 如申请专利范围第1项所述之家用水 处理装置,其中 该磁铁装置(26.28)包括第一及第二相同极性之永久 磁铁 极面(42.40),其被配置成使得在一个有该消毒剂(30) 被 定位在其中的区域里,来自该等极面之磁力线系累 加的。11. 一种家用水处理装置,以供诸如一浴室 水槽、一家用 空气调节排水盘或一家用增湿器之一家用水处置 装置用, 该家用水处理装置包含: 一壳体(20),其具有一能使其被插入该家用水处置 装置之 一含水部份中的大小和形状, 该壳体包括具有一中心交叉之横向(44)及纵向(46) 中心平 面,该壳体在大小及重量上以该等中心平面为中心 而近乎 对称; 该壳体包括一个摩擦性地与一个一体模制成形底 座(22)相 配接的一体模制成形盖板(24),该底座包括相反的 内部及 外部底板,该盖板包括一具有数个洞孔(50)于其中 的板顶 ,使得水可流动于该家用水处置装置之该含水部份 与该壳 体内部之间; 一对永久磁铁扣持隔间(100-104.106)在该壳体之该横 向 中心平面之二相反侧上位于该底座中,在每一该磁 铁扣持 隔间中之一平坦永久磁铁(26.28)被配置成使得该磁 铁之 一第一大致平面状极面(42)紧邻该内部底板,且一 与该第 一极面相平行之该磁铁之第二大致平面状极面系 远离于该 内部底板,每一该等扣持隔间包括一种结构(98.106. 114),其用以将该等磁铁中之一保持于原来位置,并 且其 用以定置该第一极面之一主要部份远离该底座内 部底板, 而对在该壳体中之水紧邻该第一极面之一主要部 份提供一 条相对低阻抗之流动路径,该第二极面系被配置成 使得其 一主要部份自由地曝置于该壳体内之水中; 一从该外部底板向外延伸之结构(34),用以与该含 水部份 之一底板(36)相啮接,并且用以将该外部底板与该 含水部 份之该底板相间隔,使得对于位于该含水部份之该 底板与 在该外部底板下方之间而在该含水部份中的水并 且从该外 部底板经由在该底座之诸开口进入该壳体之内部 的水来说 ,有一条相对低阻抗之流动路径; 该盖板包括一对在该壳体内并且在该横向中心平 面之二相 反侧上从该板顶向下悬垂之壁(54),所有该等盖板 之板顶 之洞孔(50)系位于该等壁间,每一壁以及该盖板相 对于该 横向中心线而越过该壁的一个部份形成一隔间(60) ,使得 当该壳体以底座优先于该含水部份中降落时,有一 空气( 32)泡形成于该隔间中,该壳体具有低于该等气泡而 靠近 该等平面之交叉处的一个重心,使得该底板啮接结 构静置 于该含水部份之该底板上。12. 如申请专利范围第 11项所述之家用水处理装置,其中 用以将每一磁铁固持于定位之该结构包括一从与 该磁铁之 该另一极面相啮接的该内部底板处向上延伸之弹 簧指部( 106),该弹簧指部产生一向下抵靠该另一极面之力 。13. 如申请专利范围第12项所述之家用水处理装 置,其中 用以将每一磁铁固持于定位之该结构包括多个从 该内部底 板处向上延伸之突出止挡部(100-104),该等止挡部啮 合 每一磁铁之侧壁部份。14. 如申请专利范围第13项 所述之家用水处理装置,其中 用以将该一极面之一主要部份定置以远离该底座 内部底板 之该结构,包括在该底座内部底板上之一对纵向延 伸结构 加强轨道(90),一斜面(114)抵接该等轨道之一并且具 有 一横向于纵向轴线之倾斜方向,并且从该内部底板 朝向在 该指部之一开口端内之一轨道之顶部而呈倾斜;该 指部、 止挡部及斜面被配置成使得该磁铁可在低于该指 部而在该 斜面之该朝上倾斜的方向,滑进于定位。15. 如申 请专利范围第11项所述之家用水处理装置,其中 在该底座中之该等开口(31)包括位于每一磁铁之另 一面正 下方的孔口。16. 如申请专利范围第15项所述之家 用水处理装置,其中 该底座包括一具有从该内部底板向上延伸之壁装 置(70)的 中心隔间、一在该中心隔间内之固体消毒剂(30); 该等开 口包括在该底座中而直接在该中心隔间下方之另 一孔口(4 );该盖板具有一结构性加强肋部(62),而该肋部具有 向 下延伸进入该隔间之指部装置(64),以在该隔间中 于该固 定消毒剂上产生一向下力。17. 如申请专利范围第 16项所述之家用水处理装置,其中 该底座包括用以推动该盖板之诸侧壁以远离该底 座的一些 耳部,以提供位于该等侧壁与底座之间的间隙,则 来自该 含水部份之水可通过该等间隙而流进该壳体内。 18. 如申请专利范围第17项所述之家用水处理装置, 其中 该盖板包括一被定置相对于该等开口(50)及该等磁 铁(26 、28)的结构(52),使得该等磁铁从该盖板之上方及 诸侧 面观看时被阻隔。19. 如申请专利范围第18项所述 之家用水处理装置,其中 在该盖板板顶中之该等开口包括数个沟槽(50)以及 该磁铁 阻隔结构(52),该盖板包括某些该等开口,而该结构 系相 对于该等某些开口以及该磁铁装置而被定置,以隔 绝从该 基板之上方及诸侧方观看到该磁铁装置。20. 如申 请专利范围第11项所述之家用水处理装置,其中 该底座包括一具有从该内部底板向上延伸之壁装 置(70)的 中心隔间、一在该中心隔间内之固体消毒剂(30), 该等开 口包括一在该底座中而在该中心隔间正下方之孔 口(4), 该盖板具有一结构性加强肋部(60),而该肋部具有 向下延 伸进入该隔间之指部装置(62),以在该隔间中的该 固体消 毒剂上产生一向下之力。21. 一种家用水处理装置 ,以供诸如一浴室水槽、一家用 空气调节排水盘或一家用增湿器之一家用水处置 装置用, 该家用水处理装置包含: 一壳体(20),其具有一能使其被插入该家用水处置 装置之 一含水部份中的大小和形状, 该壳体包括被定置且被配置成使水能够从该含水 部份流过 该壳体的数个开口(27.31); 永久磁铁装置(26.28),其在该壳体中而在一使水经 由该 等开口而流过该壳体的流动路径中,其用以聚集在 接触到 该磁铁装置之水中的自由离子; 该壳体包括一底座(22),该底座被建构成使得该等 开口( 27)之一位于其上并与该家用水处置装置之该含水 部份的 一底板(36)相间隔,而该底座系静置于该底板上; 该盖板被建构成使得,当该壳体被置于该家用水处 理装置 中之水之顶面上,且不管家用水处理装置内之水的 深度因 而自由降落至该底板上时,该底座确保静置于该底 座上, 并且水接触该磁铁装置之全部极化面之一主要部 份。22. 如申请专利范围第21项所述之家用水处理 装置,其中 该壳体(20)被建构成使得当该壳体降落至该底板(36 )时, 该壳体中形成一空气泡(32)以抵靠与该底座(22)相 远离的 该壳体之一表面;并且当该底座静置于该底板上时 ,该空 气泡仍然保持抵靠该表面。23. 一种家用水处理装 置,以系供诸如一浴室水槽、一家 用空气调节排水盘或一家用增湿器等之一家用水 处理装置 用,该家用水处理装置包括: 一壳体(20),其具有使它可被插入该家用水处置装 置之一 含水部份中的大小和形状,该壳体包括被定置及配 置以供 使水能够流动于该含水部份与该壳体之间的一些 开口(27 、31); 在该壳体中之永久磁铁装置(26.28),其在一水经由 诸开 口流动通过该壳体的流动路径中,以供聚集在水中 接触该 磁铁装置之自由离子; 该壳体包括一底座,而该磁铁装置紧固于该底座上 ,并且 一盖板紧固至该底座上; 该盖板包括一些该等开口(31)以及一相对于该等一 些开口 及该永久磁铁装置而设置之结构,以供阻隔不管在 该家用 水处理装置中之水的深度,从该盖板之上方及诸侧 方观看 不到该磁铁装置,该盖板中之该等开口包括在该盖 板之一 板顶之数个沟槽(27),阻隔该磁铁装置之该结构包 括被配 置以增加该盖板之结构性强度之数个肋部(52),每 一该等 沟槽及肋部系对齐排列,且具有相近之大小及形状 。24. 一种家用水处理装置,以供诸如一浴室水槽 、一家用 空气调节排水盘或一家用增湿器之一家用水处置 装置用, 该家用水处理装置包含: 一壳体(20),其具有一能使其被插入该家用水处置 装置之 一含水部份中的大小和形状, 该壳体包括被定置且被配置成使水能够从该含水 部份流过 该壳体的数个开口(27.31); 永久磁铁装置(26.28),其在该壳体中而在一使水经 由该 等开口而流过该壳体的流动路径中,其用以聚集在 接触到 该磁铁装置之水中的自由离子; 该壳体包括一底座(22),而该磁铁装置被紧固于该 底座上 ;以及一紧固至该底座上之盖板(24), 一个用以将该磁铁装置固持于定位的结构(100.104. 106 ),包括一自该底座之一内部底板向上延伸之弹簧 指部( 106),该指部并且具有一长形部份(110)啮接与该内部 底 板(80)相远离之该磁铁装置之一平坦第一极面,该 弹簧指 部产生一向下之力以抵靠该远离极面,一对结构性 强度提 供轨道(98)在该内部底板上以一与该指部之该长形 部份之 延长方向大体垂直之方向延伸,使得该长形部份重 叠于该 等轨道之一,该磁铁装置具有一抵接并且被该等轨 道所支 撑的平坦第二极面,使得在该第二极面与该内部底 板之间 有一间隙(42),而使得对在该壳体中之水而言,在该 间隙 中提供一相对低流动阻抗之路径。25. 如申请专利 范围第24项所述之家用水处理装置,其中 用以将磁铁装置固持于定位之该结构包括多个从 该内部底 板向上延伸之突出止挡部(100-104),该等止挡部啮接 该 磁铁装置之侧壁部份。26. 如申请专利范围第24项 所述之家用水处理装置,其中 该底座包括一抵接该等轨道之一的斜面(114),该斜 面具 有一与该等轨道之外延方向相横向的倾斜方向,且 该斜面 在该指部之一开口端内从该内部底板朝向该轨道 之一顶部 表面而被倾斜,其中用以将磁铁装置之每一磁铁固 持于定 位的该结构,包括多个从该内部底板向上延伸之突 出止挡 部(100-104),该等止挡部啮接每一磁铁之侧壁部份。 27. 如申请专利范围第26项所述之家用水处理装置, 其中 该底座(22)包括位于该第二磁铁极面正下方之孔口 装置( 31)。图示简单说明: 第1图系一依据本发明之较佳实施例中置于一浴室 水槽底 板上之一水处理装置之侧方截面图; 第2图系为一例示于第1图中之装置的顶视图,其具 有一些 隐藏部分系以虚线表示; 第3图系为一切过第2图之线3-3而截取出之侧方截 面图; 第4图系为一切过第2图之线4-4且沿着装置横过中 心平面 观看而截取出之侧方截面图; 第5图系为一切过第2图之线5-5而截取出之侧方截 面图; 第6图系为一切过第2图之线6-6而截取出之部分截 面图; 第7图为一包括在例示于第1至6图中之装置内的盖 板之底 视图; 第8图为一切过第7图之线8-8而截取出之侧方截面 图; 第9图为一切过第8图之线9-9而截取出之侧视图; 第10图为一由第9图中圆形线10-10所指出之部分细 部放大 图; 第11图为一第7图之盖板之侧视图; 第12图为一包括例示于第1至7图装置中之底座的顶 视图。 第13图为一切过第12图之线13-13而截取出之纵向截 面图 ; 第14图为一例示于第12图中之底座的侧视图; 第15图为一切过第14图之线15-15而截取出之侧方截 面图 ; 第16图为一切过第12图之线16-16而截取出之侧方截 面图 ; 第17图为一切过第12图之线17-17而截取出之侧方截 面图 |
