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发明名称
FABRICATION METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND AND SEMICONDUCTOR FABRICATION APPARATUS
摘要
申请公布号
JPH08316192(A)
申请公布日期
1996.11.29
申请号
JP19950119625
申请日期
1995.05.18
申请人
CANON INC
发明人
KUNIYONE KAZUO
分类号
H01L21/306;H01L21/02;H01L21/205;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
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