| 发明名称 | 用于制造半导体器件的曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种用于制造半导体器件的曝光装置包括：一个具有待曝光图形的掩模母板；一控制掩模母板的曝光区域的遮光器；位于遮光器和掩模母板之间的光学组件，其聚集通过遮光器的光线。掩模母板上的相邻接图形靠曝光能量叠加连续投影。掩模母板的使用区域可最大化，图形间的间隔不再重要，图形间曝光不足或过度的缺陷可得以弥补。 | ||
| 申请公布号 | CN1136708A | 申请公布日期 | 1996.11.27 |
| 申请号 | CN96102995.1 | 申请日期 | 1996.03.28 |
| 申请人 | 三星航空产业株式会社 | 发明人 | 郑然旭 |
| 分类号 | H01L21/30;G03F7/20 | 主分类号 | H01L21/30 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 李晓舒 |
| 主权项 | 1、一种用于制造半导体器件的曝光装置，包括：具有待曝光图形的掩模母板；用于控制掩模母板的曝光区域的遮光器；位于遮光器和掩模母板之间用于聚光的光学组件。 | ||
| 地址 | 韩国庆尚南道 | ||